中頻磁控濺射真空鍍膜設備已漸成為濺射鍍膜的主流技術,它優于直流磁控濺射鍍膜的特點是
1.克服了陽極消失現象,
2.減弱或消除靶的異常弧光放電。因此,提高了濺射過程的工藝穩定性,同時,提高了介質膜的沉積速率數倍。
匯成公司研發了平面靶,圓柱靶,孿生靶,對靶等多種形式的中頻濺射靶結構和布局。該類設備廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。
中頻磁控濺射真空鍍膜設備
站內搜索
|
中頻磁控濺射真空鍍膜設備
詳細信息 中頻磁控濺射真空鍍膜設備已漸成為濺射鍍膜的主流技術,它優于直流磁控濺射鍍膜的特點是
1.克服了陽極消失現象, 2.減弱或消除靶的異常弧光放電。因此,提高了濺射過程的工藝穩定性,同時,提高了介質膜的沉積速率數倍。 匯成公司研發了平面靶,圓柱靶,孿生靶,對靶等多種形式的中頻濺射靶結構和布局。該類設備廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。 共0條 相關評論 |